台积电：7nm EUV芯片首次流片成功 5nm明年试产

日期：2018-10-10 来源：旁推网作者：旁推网浏览：22

核心提示：　　台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破，一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作，二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。（文章来源：快科技）

　　台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破，一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作，二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。

（文章来源：快科技）

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